Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1) INNOVENT e. V.

Prüssingstr. 27 B

07745 Jena

Deutschland

Telefon: +49 3641282510

Fax: +49 3641282530

E-Mail: sf@innovent-jena.de

Internet: http.:www.innovent-jena.de

I.2) Gemeinsame Beschaffung

I.4) Art des öffentlichen Auftraggebers Einrichtung des öffentlichen Rechts

I.5) Haupttätigkeit(en) Allgemeine öffentliche Verwaltung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1) Umfang der Beschaffung

II.1.1) Bezeichnung des Auftrags: Glow discharge optical emission spectroscopy (GDOES) Referenznummer der Bekanntmachung: ING-A3

II.1.2) CPV-Code Hauptteil 38300000

II.1.3) Art des Auftrags Lieferauftrag

II.1.4) Kurze Beschreibung: Bereitstellung eines Arbeitsplatzes zur qualitativen und quantitativen Elementbestimmung von metallischen und nichtmetallischen Substraten mittels Glimmentladungsspektroskopie (glow discharge optical emission spectroscopy; GDOES). Entsprechend des Profils des Auftraggebers wird dieses GDOES für unterschiedliche Anwendungen im Sinne der Materialanalyse für Forschungs- und Drittmittelarbeiten genutzt. Dazu werden insbesondere eine große Variabilität bezüglich der Elementanalyse und hohe Anforderungen an die Analyse von Schichten, Schichtsystemen und Bulkmaterialien mit hoher Auflösung gefordert.

II.1.6) Angaben zu den Losen Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.1.7) Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.) Wert ohne MwSt.: 239.703,33 EUR

II.2) Beschreibung

II.2.1) Bezeichnung des Auftrags

II.2.2) Weitere(r) CPV-Code(s) 38600000

II.2.3) Erfüllungsort NUTS-Code: DEG03 Hauptort der Ausführung: In den Vergabeunterlagen aufgeführt

II.2.4) Beschreibung der Beschaffung: Der Auftragsgegenstand gliedert sich in folgende Schwerpunkte: 1.1. GDOES Grundangaben des Gehäuses bzw. der Stellfläche (exklusive der Peripheriegeräte, wie bspw. Kühlsystem oder Stickstoffgenerator) — Breite Maximal: 1 500 mm, — Tiefe maximal: 890 mm, — Höhe maximal: 1 300 mm, — Gewicht maximal 750 kg Ausstattung des GDOES, — RF-Quelle zur Elementanalyse von metallischen und nichtmetallischen Substraten bei gleichzeitiger Ausformung einer gleichmäßigen Kratergeometrie; RF-Quelle muss einen kontinuierlichen und einen gepulsten Modus ermöglichen (beide Modi müssen während des Sputterns auf Impedanzänderungen in Echtzeit eine automatische Anpassung aufweisen; die Frequenz muss konstant bleiben, typischerweise 13,56 MHz), — Polychromator und Monochromator zur Detektion der geforderten Elemente, — weiterer Polychromator mit hochdynamischem Detektor für die flexible Erfassung weiterer Elemente, — Analysenkammer mit zwei unabhängig betriebenen Pumpen für Tiefenauflösungen im Nanometerbereich (Beide Pumpen müssen eine angemessene Kontrolle und gleichmäßige Druckverteilung auf der Probenoberfläche während einer Tiefenprofilierung gewährleisten), — direkte und kontinuierliche Online-Tiefenmessung während des Sputtervorgangs zur Bestimmung der Kratertiefe (zur bspw. Bestimmung der Schichtdicken von Multilayersystemen); Ausschluss der Überlagerung von Messsignal (bspw. interferrometrisch) und Elementemission, — Transfervorrichtung zur Analyse sauerstoffempfindlicher Proben und zur Analyse unter Schutzgasatmosphäre, — hohe Erfassungsdynamik zur exakten Bestimmung der Elementkonzentration für stark alternierende Zusammensetzungen in aufeinander folgenden Schichten (Dabei müssen geringe Elementkonzentrationen des einen Elements synchron zu hohen Elementkonzentrationen eines anderen Elements gemessen werden können. Um diesen Dynamikumfang zu gewährleisten, muss das Gerät mit einem Polychromator ausgestattet sein, der für jedes Element mit einem eigenen hochdynamisch geregelten Detektor ausgestattet ist. Die Detektoren müssen sich automatisch und instantan der Intensität der Elementemission anpassen. Diese Anpassung muss es erlauben eine Messung ohne Voreinstellung der Detektorempfindlichkeit durchzuführen. Für die geforderten Elemente muss diese Erfassungsdynamik gewährleistet sein.) — optische Positionierhilfe zur optimalen Probenpositionierung (bspw. mittels Laserlicht) Geforderte Elemente, — H, Li, B; C, N, O, F, Na, Mg, Al, Si, P, S, Cl, K, Ca, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, La, Ce, Nd, W, Pt, Au, Pb, Bi (47 Elemente), — Messung von H, C, N, O und Cl im Spektralbereich <160 nm, da für diese Elemente die intensivste Emissionslinie in diesem Spektralbereich liegt Peripherie, — Hard- und Software zur Bedienung des GDOES (Computer Win 10 / 64 Bit und Monitor mind. 23“ und HDMI-Anschluss), — Umlaufkühler für die RF-Quelle Weitere Anforderungen, — kalibriertes Gerät, — Möglichkeit zur Inhouse-Schulung, — Möglichkeit zur jährlichen Service Wartung für die nächsten 10 Jahre 1.2. Lieferung, Aufstellung, Installation des Systems Verpackung und Transport sind vom Bieter vorzunehmen und im Angebot zu berücksichtigen. Hinsichtlich notwendiger Versorgungsmedien und Peripherie wird ein Aufstellplan mit Bedarfs und Anforderungsliste der Medienzuführung erwartet. Sämtliche benötigten Sicherheitsvorrichtungen sind vom Bieter anzugeben. Eine technische Dokumentation inkl. CE-Konformitätserklärung im Sinne der EG Maschinenrichtlinie 2006/42/EG, ISO9001 / WHG Zertifikate, Betriebsanleitung etc. sind anzugeben. Ein Benutzerhandbuch sowie eine technische Dokumentation für das Gerät sind in deutscher und englischer Sprache in digitaler und gedruckter Form mitzuliefern. Diese sollen eine entsprechende Aufbauanleitung beinhalten. Alternativ können zur Aufbauanleitung entsprechende digitale Medien oder Anleitungen für die Inbetriebnahme angeboten werden.

II.2.5) Zuschlagskriterien Preis

II.2.11) Angaben zu Optionen Optionen: nein

II.2.13) Angaben zu Mitteln der Europäischen Union Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja Projektnummer oder -referenz: Aufbau eines Messplatzes zur Prozesskontrolle und Schichtanalyse von chemischen, elektrochemischen und plasmachemischen Oberflächenfunktional. ...

II.2.14) Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1) Beschreibung

IV.1.1) Verfahrensart Offenes Verfahren

IV.1.3) Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.6) Angaben zur elektronischen Auktion

IV.1.8) Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA) Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2) Verwaltungsangaben

IV.2.1) Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

IV.2.2) Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge

IV.2.4) Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2020/S 242-596162

IV.2.8) Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9) Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2) Auftragsvergabe

V.2.1) Tag des Vertragsabschlusses 28.01.2021

V.2.2) Angaben zu den Angeboten Anzahl der eingegangenen Angebote: 2, Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 0, Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0, Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0, Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 0

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3) Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde Horiba Jobin Yvon GmbH, Bensheim, 64625, Deutschland, NUTS-Code: DE715, Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja

V.2.4) Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.) Gesamtwert des Auftrags/Loses: 239.703,33 EUR

V.2.5) Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3) Zusätzliche Angaben

VI.4) Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1) Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren Thüringer Landesverwaltungsamt – Vergabekammer des Freistaates Thüringen, Weimarplatz 4, Weimar, 99423, Deutschland, Telefon: +49 361-573321254, E-Mail: vergabekammer@tlvwa.thueringen.de, Fax: +49 361-573321059

VI.4.2) Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren

VI.4.3) Einlegung von Rechtsbehelfen Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:

(1) Etwaige Vergabeverstöße muss der Bewerber/Bieter gemäß § 160 Abs. 3 Nr. 1 GWB innerhalb von 10 Tagen nach Kenntnisnahme rügen.

(2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 2 GWB spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Abgabe der Bewerbung oder der Angebote gegenüber dem Auftraggeber zu rügen.

(3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 3 GWB spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbungs- oder Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber zu rügen.

(4) Ein Vergabenachprüfungsantrag ist nach § 160 Abs. 3 Nr. 4 GWB innerhalb von 15 Kalendertagen nach der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, bei der Vergabekammer einzureichen.

VI.4.4) Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

VI.5) Tag der Absendung dieser Bekanntmachung Tag: 17.03.2021