Abschnitt I:

I.1) Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.

Bautzner Landstrasse 400

01328 Dresden

Fax: +49 3512603166

E-Mail: vergabe@hzdr.de

Internet: www.hzdr.de

I.2) Gemeinsame Beschaffung

I.4) Art des öffentlichen Auftraggebers Andere: Großforschungseinrichtung

I.5) Haupttätigkeit(en) Andere Tätigkeit: Forschung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1) Umfang der Beschaffung

II.1.1) Bezeichnung des Auftrags: Nano-Scanning Auger Microscope (NanoSAM) Referenznummer der Bekanntmachung: EUVV1714

II.1.2) CPV-Code Hauptteil 38511100

II.1.3) Art des Auftrags Lieferauftrag

II.1.4) Kurze Beschreibung: Das zu beschaffende Oberflächenanalytik-Systems soll für die Untersuchung und chemische Analyse von Oberflächen, 2D Materialien und dünnen Schichten im Ultrahochvakuum (UHV, Druck < 5x10-10 mbar) vor und nach der Modifizierung mit niederenergetischen Ionen eingesetzt werden. Das System muss die chemische Untersuchung mit Nanometerauflösung sowohl lateral, bildgebend (mapping / imaging), als auch in die Tiefe (depth profiling) aufgelöst, ermöglichen. Dafür muss es folgende Methoden in einem System vereinen: Raster Elektronen Mikroskopie (REM), Auger Elektronen Spektroskopie (AES), Raster Auger Elektronen Mikroskopie (SAM), Röntgen-Photoemissions-Spektrometrie (XPS) und energiedispersive Röntgenphotoemissionsspektrometrie. Weiterhin muss das System erweiterbar sein für ein bild- und winkelauflösendes Kathodolumineszenz (CL)-System, das von der Firma DELMIC in den Niederlanden gekauft wurde und zu einem späteren Zeitpunkt nachträglich in das System eingebaut werden wird.

II.1.6) Angaben zu den Losen Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.1.7) Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.) Wert ohne MwSt.: 1,00 EUR

II.2) Beschreibung

II.2.1) Bezeichnung des Auftrags

II.2.2) Weitere(r) CPV-Code(s)

II.2.3) Erfüllungsort NUTS-Code: DED21 Hauptort der Ausführung: Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e. V., Bautzner Landstraße 400, 01328 Dresden.

II.2.4) Beschreibung der Beschaffung: Für alle die unter II.1.4 genannten Methoden wird ein Elektronenstrahl benötigt, der in einer Elektronsäule fokussiert und gerastert wird. Die Auflösung der analytischen Methoden, die hier benutzt werden sollen, hängen somit maßgeblich vom Fokus des Elektronenstrahls ab. Eine Auflösung von ein paar Nanometern ist dabei unabdingbar um chemische Veränderungen, die z.B. mit einem fokussierten Ionenstrahl oder durch Clusterung von Dotieratomen hervorgerufen werden, untersuchen zu können. Weiterhin ist es geplant Ag Nanopartikel abzubilden und deren optische Eigenschaften mittels Kathodolumineszenz zu untersuchen. Hierfür wird auch eine Auflösung von <10 nm benötigt um plasmonisch verstärkte Solarzellen untersuchen zu können. Für Auger Elektronen Spektroskopie ist es außerdem wichtig bei hohen Strömen bis 1 nA zu arbeiten um kurze Messzeiten und stabile Bedingungen während der Messungen zu erhalten. Dabei sollte die Auflösung nicht verloren gehen. Zur Analyse von Oberflächen, die mittels Ionenbeschuss modifiziert wurden, ist es geplant das Oberflächenanalytik-System mit einem UHV Verteilersystem zu verbinden, um Änderungen durch Luftkontakt zu vermeiden. Die Möglichkeit des Transports von Proben von verschiedenen Experimenten im UHV Verteilersystem zum Analytik-System und zurück ohne Unterbrechung der Vakuumkette (sog. in-situ Bedingung) ist dabei unabdingbar. Dafür wäre es von Vorteil, wenn die Probenhalter aller an das Verteilersystem angebrachten Systeme kompatibel sind. Das Oberflächenanalytik-System setzt sich aus folgenden Bestandteilen zusammen: — Utrahochvakuum-Analysekammer inklusive Pumpen- (bevorzugt Ionengetterpumpen und Titansublimationspumpen in der Analysekammer), Druckmeßröhren, und Vakuumtechnik zum Betrieb des Systems, Heiztechnik zum Ausheizen der Kammer und aller Komponenten im Vakuum, Systemrahmen inkl. nötiger Vibrationsdämpfung und Kontroller zur Steuerung der Vakuumanlage und der vorhandenen Komponenten, — Die Analysekammer sollte aus nicht-magnetischen Stahl sein und das Magnetfeld im Bereich der Probe und des Spektrometers mittels magnetisch abschirmenden µ-Metall minimieren, — Stabiler hochpräziser 5-Achsen Probenmanipulator für die Aufnahme und Positionierung der zu analysierenden Proben in Bezug zum Elektronenstrahl und dem Elektronenanalysator, bevorzugt mit euzentrischer Kippung, — Der Probenmanipulator sollte Heizung und Kühlung für die Probe enthalten um die Temperatur der Probe von bevorzugt 25 K bis 1000 K zu ermöglichen, — Einheit im UHV zum „Parken“ von mindestens 5 Proben, — UHV kompatible, fokussierbare und rasterbare Elektronenquelle für die Anregung von Auger-Elektronen für die Analytik sowie für die Betrachtung der Probenoberfläche inkl. in-lens Sekundärelektronendetektor mit einem Fokus bevorzugt von etwa 3 nm und Elektronenströmen bis 1 nA, — Externer Sekundärelektronendetektor für Rasterelektronenmikrokopie, — Hemisphärischer Analysator für die energieaufgelöste Detektion von Sekundärelektronen für Auger Elektronen Spektroskopie (AES) und Raster Auger Elektronen Mikroskopie (SAM), — Fokussierbare und rasterbare Ionenquelle für den Materialabtrag und damit die Erzeugung von Sputtergräben für die Tiefenprofilierung mittels AES und XPS von Schichtsystemen inklusive Pumpe für differentielles Pumpen der Ionenquelle, sowie Gassystem für die Versorgung der Ionenquelle mit Ar und Xe Gas, — Röntgendetektor um energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDX) angeregt durch den Elektronenstrahl betreiben zu können, — Zweianoden (Mg / Al) Röntgenquelle für XPS, — UHV-Kammer zum Einschleusen von Proben in die Analysekammer inklusive Pumpen zum schnellen Abpumpen (bevorzugt Turbomolekularpumpe mit ölfreier Vorpumpe), — Kontroller inklusive Racks für die Versorgung und Computer inkl. Software zur Steuerung aller Komponenten der Analysekammer, die für REM, AES und XPS inkl. Tiefenprofilierung, SAM und EDX Imaging benötigt werden.

II.2.5) Zuschlagskriterien Preis

II.2.11) Angaben zu Optionen Optionen: nein

II.2.13) Angaben zu Mitteln der Europäischen Union Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14) Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1) Beschreibung

IV.1.1) Verfahrensart Verhandlungsverfahren

IV.1.3) Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.6) Angaben zur elektronischen Auktion

IV.1.8) Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA) Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2) Verwaltungsangaben

IV.2.1) Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2017/S 227-472968

IV.2.8) Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9) Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe Auftrags-Nr.: 4620029580 Bezeichnung des Auftrags: Nano-Scanning Auger Microscope (NanoSAM) Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2) Auftragsvergabe

V.2.1) Tag des Vertragsabschlusses 06.12.2017

V.2.2) Angaben zu den Angeboten Anzahl der eingegangenen Angebote: 1 Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3) Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde Omicron NanoTechnology GmbH Limburger Str. 75 Taunusstein 65232 Deutschland NUTS-Code: DE71D E-Mail: www.omicron-instruments.com Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein

V.2.4) Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.) Gesamtwert des Auftrags/Loses: 1,00 EUR

V.2.5) Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3) Zusätzliche Angaben Der Gesamtwert der Beschaffung unter II.1.7) und der Gesamtwert des Auftrages unter V.2.4) werden zur Wahrung der Betriebs- und Geschäftsgeheimnisse des vorgesehenen Auftragnehmers nicht bekannt gegeben. Daher wurde der fiktive Wert 1 EUR eingetragen.

VI.4) Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1) Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren Vergabekammer des Bundes Villemomblerstr. 76 Bonn 53123 Deutschland Telefon: +49 2289499-0 Fax: +49 2289499-163

VI.4.2) Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren

VI.4.3) Einlegung von Rechtsbehelfen Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen: Rechtsbehelfe gemäß § 160 GWB: (1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. (2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichen Auftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht. (3) Der Antrag ist unzulässig, soweit: — 1. der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt, — 2. Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, — 3. Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, — 4. mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Absatz 1Nummer 2. § 134 Absatz 1 Satz 2 bleibt unberührt.

VI.4.4) Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt Vergabekammer des Bundes Villemomblerstr. 76 Bonn 53123 Deutschland Telefon: +49 2289499-0 Fax: +49 2289499-163

VI.5) Tag der Absendung dieser Bekanntmachung Tag: 06.12.2017